Сделано в НИИТМ: демонстрация новейшего оборудования для микроэлектроники

Сотрудники АО «Научно-исследовательский институт точного машиностроения» (входит в ГК «Элемент») рассказали о первых в России кластерных комплексах плазмохимического осаждения и травления для обработки кремниевых пластин ⌀ 300 мм с возможностью изменения конфигурации для работы с пластинами 200 мм, а также продемонстрировали установки: газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений нитрида галлия на кремниевых подложках 200 мм для производства силовых и СВЧ транзисторов «ЭПИФАЗ ТМ 200-01» и быстрого термического отжига «БТО ТМ 200-01» для обработки полупроводниковых пластин ⌀ 150 и 200 мм. Эти разработки знаменуют собой важный шаг в сторону технологического суверенитета отечественной микроэлектроники. НИИТМ приглашает участников форума «Микроэлектроника 2025» посетить выставочный стенд компании, где можно будет ознакомиться с текущими разработками, задать вопросы специалистам и обсудить перспективы сотрудничества.